C4F6,六氟-1,3-丁二烯分子量:162.03 g/mol外观:无色液化气体熔点:-132℃沸点:6℃密度:1.553 g/cm3水溶性:不溶用途:*一代的半导体蚀刻气体,在刻蚀速度及刻蚀选择性上均能满足高速刻蚀的要求。不需要添加额外的辅助性气体如Ar、H2、O2等,在刻蚀过程中CF+/CF2+为主导气体。产品优势:C4F6在0.13um技术层面有诸多蚀刻上的优点;C4F6有比C4F8更高的对光阻和氮化硅选择比,这是很重要的两个优点。
另外,C4F6的GWP值几乎为0,温室效应系数低,从而降低温室气体的排放。
储存:储存在阴凉通风处,容器保持密闭。储存在原容器中的温度不超过50℃。避免阳光直射。注意不要与氧化剂一起混储。